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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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2200C 2800C Horno de deposición de vapor químico de CVD para materiales compuestos

Detalles del producto

Nombre de la marca: Jingtan

Certificación: CE

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 1 juego

Precio: USD18,000-100,000/SET

Detalles de empaquetado: caja de madera

Tiempo de entrega: 60 días

Condiciones de pago: Las condiciones de los productos

Capacidad de la fuente: 10 piezas al mes

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Especificaciones
Resaltar:

Horno de deposición de vapor químico CVD

,

Fuego de deposición de vapor químico 2800C

Lugar de origen:
Hunan, China
El tipo:
horno de inducción
Utilización:
Horno del tratamiento térmico
Inspección de salida por vídeo:
Proveedor
Informe de ensayo de la máquina:
Proveedor
Componentes básicos:
PLC, motor, bomba
brand name:
Jingtan
Válvula de tensión:
380
Peso (T):
2 T
Potencia en kW:
150
Garantización:
1 año
Temperatura límite:
Se aplican las siguientes medidas:
Método de calentamiento:
Resistencia al grafito/calentamiento por inducción
Garantía de los componentes centrales:
1 año
Lugar de origen:
Hunan, China
El tipo:
horno de inducción
Utilización:
Horno del tratamiento térmico
Inspección de salida por vídeo:
Proveedor
Informe de ensayo de la máquina:
Proveedor
Componentes básicos:
PLC, motor, bomba
brand name:
Jingtan
Válvula de tensión:
380
Peso (T):
2 T
Potencia en kW:
150
Garantización:
1 año
Temperatura límite:
Se aplican las siguientes medidas:
Método de calentamiento:
Resistencia al grafito/calentamiento por inducción
Garantía de los componentes centrales:
1 año
Descripción
2200C 2800C Horno de deposición de vapor químico de CVD para materiales compuestos
Descripción de los productos

 

Horno de deposición de vapor
(1) El modo de calefacción eléctrica: calefacción uniforme, funcionamiento sencillo, fácil control y mantenimiento.
(2) El horno está hecho de materiales especiales con una fuerte resistencia a altas temperaturas, que pueden soportar el peso de los elementos de calefacción a altas temperaturas y los componentes pesados.y tiene un excelente rendimiento de sellado, lo que puede prevenir eficazmente la contaminación del sedimento que crece en el sustrato.
(3) Control inteligente de la presión, pequeña fluctuación de la presión;
(4) La estructura totalmente cerrada tiene una buena estabilidad térmica, un buen efecto de sellado y una fuerte capacidad antipollución.
(5) Proceso multicanal de trayectoria de gas, flujo uniforme, sin ángulo muerto de deposición, buen efecto de deposición;
(6) Sistema de tratamiento de gases de escape de alta eficiencia en varias etapas, respetuoso con el medio ambiente, recolección eficiente de alquitrán y subproductos, fácil de limpiar;
(7)Se adopta el método de enfriamiento, la cáscara se enfría con agua, se puede seleccionar el sistema de enfriamiento rápido de circulación externa, el tiempo de enfriamiento es corto y la eficiencia de producción es alta.
 
 
Uso del producto
Se utiliza para el tratamiento CVD/CVI de la superficie o matriz del material con gas de hidrocarburos (como C3H8, CH4, etc.) como fuente de carbono, y para el recubrimiento superficial del material,modificación de la matriz, preparación de materiales compuestos, etc.
 
 
Modelo
Se aplicará el método de clasificación de los productos.
Se aplicará el procedimiento siguiente:
Se aplicará el procedimiento siguiente:
Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.
Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.
Se aplicará el procedimiento siguiente:
Se aplicará a los vehículos de la categoría M1 y M2.
Se aplicará el procedimiento siguiente:
Tamaño de la zona de trabajo
Frm × H (mm)
100 × 500
150 × 800
200 × 1000
250×1500
300×1800
350 × 2200
400 × 2600
500 × 3000
Temperatura límite(°C)
 
2200/2800
 
 
 
 
 
 
 
Uniformidad de la temperatura ((°C)
 
± 3 / ± 5
 
± 3 / ± 5
 
Se aplican las siguientes medidas:5
 
± 7,5/± 10
 
± 7,5/± 10
 
Se aplicarán las siguientes medidas:
 
Se aplicarán las siguientes medidas:
 
Se aplicarán las siguientes medidas:
Grado de vacío límite ((Pa)
≤ 30 años
≤ 30 años
≤ 50 años
≤ 50 años
≤ 100
≤ 100
≤ 100
≤ 100
Tasa de aumento de la presión ((Pa/h)
1
1
2
2
5
5
5
5
Método de calentamiento
Resistencia al grafito/calentamiento por inducción
 
 
 
 
 
 
 
Los parámetros anteriores pueden ajustarse de acuerdo con los requisitos del proceso y no se utilizarán como base para la aceptación.Prevalecerá el plan técnico específico y el acuerdo.
 
 
 
 
 
 
 
 
2200C 2800C Horno de deposición de vapor químico de CVD para materiales compuestos 0
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