Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

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Equipo de deposición de hornos CVD para la preparación de material semiconductor de película delgada

Detalles del producto

Nombre de la marca: Jingtan

Certificación: CE

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 1 juego

Precio: USD12,000-100,000/SET

Detalles de empaquetado: Embalaje de cajas de madera

Tiempo de entrega: 60 días

Condiciones de pago: Las condiciones de los productos

Capacidad de la fuente: 30 pieza/s por trimestre

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Especificaciones

Descripción

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Resaltar: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                              Equipo de deposición para material semiconductor, Horno CVD para material semiconductor
                                                  

Lugar de origen:	Hunan, China	El tipo:	horno de inducción
Utilización:	horno de deposición	Inspección de salida por vídeo:	Proveedor
Informe de ensayo de la máquina:	Proveedor	Componentes básicos:	PLC
brand name:	Jingtan	Válvula de tensión:	380
Peso (T):	2 T	Potencia en kW:	220
Puntos de venta clave:	Precio competitivo	Temperatura de diseño (°C):	1250 a 2200
Temperatura preocupante:	900-1200 °C	Velocidad de aumento de la presión (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Método de calentamiento:	resistencia/inducción	Atmósfera de trabajo:	el vacío/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo de horno:	Cuadrado/redondoVertical/horizontal	Modo de enfriamiento del horno:	refrigeración por agua de la cáscara del horno
Instrumento de infrarrojos:	Colorimetría simple/doble	Uniformidad de la temperatura:	± 5
El límite de vacío Grado ((Pa):	1-100	Tipo de comercialización:	Producto ordinario
Garantía de los componentes centrales:	1 año	Industrias aplicables:	Los demás, semiconductores

Lugar de origen:	Hunan, China
El tipo:	horno de inducción
Utilización:	horno de deposición
Inspección de salida por vídeo:	Proveedor
Informe de ensayo de la máquina:	Proveedor
Componentes básicos:	PLC
brand name:	Jingtan
Válvula de tensión:	380
Peso (T):	2 T
Potencia en kW:	220
Puntos de venta clave:	Precio competitivo
Temperatura de diseño (°C):	1250 a 2200
Temperatura preocupante:	900-1200 °C
Velocidad de aumento de la presión (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Método de calentamiento:	resistencia/inducción
Atmósfera de trabajo:	el vacío/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo de horno:	Cuadrado/redondoVertical/horizontal
Modo de enfriamiento del horno:	refrigeración por agua de la cáscara del horno
Instrumento de infrarrojos:	Colorimetría simple/doble
Uniformidad de la temperatura:	± 5
El límite de vacío Grado ((Pa):	1-100
Tipo de comercialización:	Producto ordinario
Garantía de los componentes centrales:	1 año
Industrias aplicables:	Los demás, semiconductores

Descripción

Equipo de deposición de hornos CVD para la preparación de material semiconductor de película delgada

Especificación:

Horno de deposición al vacío:

Se utiliza principalmente para la preparación de materiales compuestos carbono-carbono y el horno de deposición se utiliza principalmente para la preparación de recubrimiento pirolítico de carbono en la superficie del grafito,Dispositivos semiconductores y materiales de limpieza resistentes al calor.

Parámetro / Número de modelo	Se aplicará el procedimiento siguiente:	Se aplicará el procedimiento siguiente:	Se aplicará el procedimiento siguiente:	Se aplicará el procedimiento siguiente:	Se aplicará el procedimiento siguiente:	Se trata de un sistema de control de las emisiones de gases de escape.	Se trata de un sistema de control de las emisiones.	Se aplicará el procedimiento siguiente:
Tamaño de la zona de trabajo Frm × H (mm)	300 × 500	500 × 500	600 × 800	600×1200	800×1200	1100 × 2000	1200×1800	1500 × 2000
Temperatura más alta (°C)	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300
Uniformidad de la temperatura ((°C)	± 5	± 5	Se aplican las siguientes medidas:5	± 7,5/± 10	± 7,5/± 10	Se aplicarán las siguientes medidas:	Se aplicarán las siguientes medidas:	Se aplicarán las siguientes medidas:
Grado de vacío límite ((Pa)	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100	1 a 100
Grado de vacío límite ((Pa)	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
Método de calentamiento	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción	Resistencia/inducción

Temperatura de diseño	Las condiciones de ensayo de las sustancias químicas incluidas en el anexo I se determinarán en función de las condiciones de ensayo.
Temperatura común	900~1200°C
Grado de vacío	El contenido de nitrógeno en el combustible
Tasa de aumento de la presión	6.67pA /h ((o 150Pa/24h) en estado frío de horno vacío
Modo de calentamiento	Calentamiento por resistencia al grafito o calentamiento por inducción, control de temperatura independiente, buena uniformidad de temperatura
Medio atmosférico	en el vacío /CH4/C3H6/H2/N2/Ar

Modo de control del gas	control del caudal de masa, vía de gas multicanal, campo de flujo uniforme, sin ángulo muerto de deposición, buen efecto de deposición;sistema de tratamiento de gases de escape de múltiples etapas y eficiente, respetuoso con el medio ambiente,fácil de limpiar
Tipo de horno	estructura cuadrada, redonda, vertical u horizontal (diseño no estándar), cámara de deposición totalmente cerrada, buen efecto de sellado, una gran capacidad de lucha contra la contaminación;
Modo de enfriamiento del horno	sistema de enfriamiento rápido de circulación externa, tiempo de enfriamiento corto, alta producción la eficiencia;

Forma de la estructura	Descarga horizontal - lateral, vertical - hacia arriba y hacia abajo
Modo de bloqueo	Manual o automático
Material de las cáscaras	Acero inoxidable interior/todo el acero inoxidable
Material aislante	Fieltro de carbono/fieltro de grafito/fieltro curado de fibra de carbono
Instrumento de infrarrojos	colorimetría única/colorimetría doble
Fuente de alimentación	KGPS/IGBT ((sólo adecuado para calefacción de media frecuencia) Parámetro del producto:

Tags:

Horno de deposición al vacío,

Horno de deposición de vapor,

Horno de CVD

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