Horno de grafitización de temperatura máxima de grado de semiconductor de 3000°C con sistema de filtración de alta eficiencia

Purificación de nanotubos de carbono semiconductores Fuego de grafitización al vacío a alta temperatura con tratamiento químico

El horno de purificación de nanotubos de carbono JTG-SC3000 de grado semiconductor combina grafitización a alta temperatura con métodos de purificación química.y industrias de materiales avanzados que requieren materiales de nanotubos de carbono de ultra alta pureza.

Características clave

• Método combinado de purificación química y de alta temperatura para obtener la máxima pureza
• Temperatura de trabajo de 3000°C para la grafitización completa de nanotubos de carbono
• Sistema de filtración de alta eficiencia para eliminar los contaminantes durante el procesamiento
• Uniformidad de temperatura ± 5°C en toda la cámara de procesamiento
• Construcción SS 304 con revestimiento interno resistente a la corrosión

Aplicaciones

Diseñado para la purificación de nanotubos de carbono de la industria de semiconductores, materiales para baterías de vehículos de nueva energía y fabricación de componentes electrónicos avanzados.

Ventajas técnicas

• El método de purificación doble alcanza niveles de pureza superiores a las normas de la industria
• La filtración de alta eficiencia captura los contaminantes metálicos durante el procesamiento
• La uniformidad de la temperatura garantiza una calidad CNT constante en grandes lotes
• Diseño resistente a la corrosión para una larga vida útil en entornos de procesamiento químico

Servicio postventa

1 año de garantía completa con soporte técnico remoto. Instalación y capacitación en el sitio disponibles. Partes de repuesto suministradas en 7 días hábiles. Consulta técnica de por vida incluida.