Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.

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Horno de grafitización con capacidad de carga de 375L 500x500x1500 Tamaño de la cámara y ±5°C Uniformidad de temperatura para la purificación de semiconductores

Detalles del producto

Lugar de origen: Hunan, China

Nombre de la marca: Jingtan

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 1

Precio: $56,000

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Especificaciones

Descripción

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                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                          Fuego de grafitización de capacidad de carga de 375L, 500x500x1500 Tamaño de la cámara Horno de purificación, Máquina de sinterización al vacío con uniformidad de temperatura ± 5°C
                                                  

Tipo:	Horno de inducción	Voltaje:	380
Peso:	5 T	Temperatura límite:	2400℃
Método de calentamiento:	Calentamiento de varillas de grafito de resistencia	Modelo de control:	Manual o automático
Atmósfera de trabajo:	Protección contra el vacío o los gases inertes	Capacidad de carga:	375L
Tamaño de la cámara:	5005001500	Uniformidad de temperatura:	± 5°C
Estructura del horno:	horizontal	Material del cuerpo del horno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500	Diferencia de temperatura:	± 5°C
Componentes centrales:	PLC, recipiente de presión, bomba, cilindro

Tipo:	Horno de inducción
Voltaje:	380
Peso:	5 T
Temperatura límite:	2400℃
Método de calentamiento:	Calentamiento de varillas de grafito de resistencia
Modelo de control:	Manual o automático
Atmósfera de trabajo:	Protección contra el vacío o los gases inertes
Capacidad de carga:	375L
Tamaño de la cámara:	5005001500
Uniformidad de temperatura:	± 5°C
Estructura del horno:	horizontal
Material del cuerpo del horno:	SS 304
ZONA DE ALTA TEMPERATURA:	5005001500
Diferencia de temperatura:	± 5°C
Componentes centrales:	PLC, recipiente de presión, bomba, cilindro

Descripción

Horno de grafitización con capacidad de carga de 375L 500x500x1500 Tamaño de la cámara y ±5°C Uniformidad de temperatura para la purificación de semiconductores

Purificación de semiconductores con combinación de métodos químicos y de alta temperatura Máquina de calentamiento por sinterización al vacío

Fuego de purificación de nanotubos de carbono

El tratamiento de purificación combinado del método de alta temperatura y el método químico, adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y muchos otros campos.

Tratamiento térmico de materiales de ánodo de baterías, metalurgia en polvo, nanomateriales, grafeno, nuevos materiales y materiales en polvo en atmósfera al vacío,Sinterización y purificación a altas temperaturas en una atmósfera inerte.

Modelo	TCL-45, también conocido como TCL-45.	El TCL-128	El TCL-375	El TCL-720	TCL-1568: las condiciones de las mismas	TCL-2560: las condiciones de las mismas	TCL-5000	TCL-7200, incluida la	El TCL-11700
Zona de altas temperaturas (mm)	300300500	400400800	5005001500	6006002000	7007003200	8008004000	100010005000	120012005000	150015005200
Capacidad de carga	45	128	375	720	1568	2560	5000	7200	11700
Diferencia de temperatura	± 5			± 10			± 15
Temperatura límite	2400
Modo de calentamiento	Resistencia al calentamiento de la varilla de grafito
Modelo de control	operación manual o automática
La atmósfera de trabajo en el horno	Protección del vacío o del gas inerte (micro presión positiva)

Se puede utilizar para la purificación por grafitización a alta temperatura de materiales de nanotubos de carbono, y puede realizar el tratamiento de purificación del método de alta temperatura combinado con el método químico.
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reduciendo el consumo de energía y acortando el ciclo de producción.
Utilice resistencia o calefacción por inducción, la temperatura puede alcanzar los 2400°C.
La combinación del método de alta temperatura y el método químico puede satisfacer los requisitos del tratamiento de alta pureza.
El sistema de filtración eficiente puede capturar eficazmente el polvo y los gases corrosivos producidos en el proceso de purificación.
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reduciendo el consumo de energía y acortando el ciclo de producción.

Preguntas frecuentes

¿Es usted una fábrica o una empresa comercial?

Sí, somos el fabricante líder de hornos de vacío de alta temperatura de China con más de 14 años de experiencia, otorgado con muchas certificaciones de patentes en el mercado nacional.

¿Tiene un servicio de personalización o OEM?

Sí, tenemos un poderoso equipo de I + D y equipos de alta tecnología. Podemos suministrar modelos normales y hornos personalizables según los requisitos del cliente.

¿Cuáles son tus ventajas?

Respuesta rápida a su consulta
Control de calidad
Una cadena de suministro estable en el mercado interno
Entrega oportuna
Excelente servicio postventa, incluido el envío de ingenieros para la instalación y depuración

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Fuego de grafitización de capacidad de carga de 375L

500x500x1500 Tamaño de la cámara Horno de purificación

Máquina de sinterización al vacío con uniformidad de temperatura ± 5°C

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