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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Detalles del producto

Nombre de la marca: Jingtan

Certificación: CE

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 1 juego

Precio: USD10,000-80,000/SET

Detalles de empaquetado: Embalaje de cajas de madera

Tiempo de entrega: 60 días

Condiciones de pago: Las condiciones de los productos

Capacidad de la fuente: 20 pieza/s por trimestre

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Especificaciones
Resaltar:

horno de purificación personalizado para cerámicas electrónicas

,

horno de grafitación para semiconductores

,

horno de purificación para nuevos materiales

Lugar de origen:
Hunan, China
Tipo:
Horno de inducción
Uso:
horno de purificación por grafitización
Video inspección saliente:
Proporcionó
Informe de prueba de maquinaria:
Proporcionó
Componentes principales:
SOCIEDAD ANÓNIMA
brand name:
OEM
Voltaje:
380
peso (t):
2 T
Potencia (kW):
120
Garantía:
1 año
Puntos clave de venta:
PLC de marca famosa
temperatura máxima:
2850
Método del calor:
Calentamiento por inducción
Condición:
Nuevo
Tipo de comercialización:
Producto ordinario
Garantía de los componentes principales.:
1 año
Ubicación de la sala de exposición:
Turquía, Reino Unido
Industrias aplicables:
Energía y minería, Nueva energía
Lugar de origen:
Hunan, China
Tipo:
Horno de inducción
Uso:
horno de purificación por grafitización
Video inspección saliente:
Proporcionó
Informe de prueba de maquinaria:
Proporcionó
Componentes principales:
SOCIEDAD ANÓNIMA
brand name:
OEM
Voltaje:
380
peso (t):
2 T
Potencia (kW):
120
Garantía:
1 año
Puntos clave de venta:
PLC de marca famosa
temperatura máxima:
2850
Método del calor:
Calentamiento por inducción
Condición:
Nuevo
Tipo de comercialización:
Producto ordinario
Garantía de los componentes principales.:
1 año
Ubicación de la sala de exposición:
Turquía, Reino Unido
Industrias aplicables:
Energía y minería, Nueva energía
Descripción
Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales
Descripción de los productos

Horno de purificación continua:

  • Se utiliza para la purificación continua de grafite a altas temperaturas de polvo de grafite, y elpurificacióntratamiento combinado con método de alta temperatura.
  • Este método es adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y otros campos.
  • Productos químicosEl método puede ser reaizado.

Uso del producto:

Este equipo es sustituible para el tratamiento de la atmósfera al vacío deMateriales de ánodo de batería,cerámica electrónica,gas,cristales, nanomateriales de metalurgia en polvo, metadepartes, componentes electrónicos,grafeno, nuevos materiales y materiales en polvoLos materiales son sinterizados bajo atmósfera inerte.

Modelo Se aplicarán las siguientes medidas: Las condiciones de las pruebas de ensayo se especifican en el punto 6.2. Las condiciones de las pruebas de seguridad de los equipos de ensayo deberán ser las siguientes:
Capacidad de producción 50 a 90 100 a 140 150 a 200
Temperatura alta 2850 2850 2850
Método de calentamiento calefacción por inducción
Método de control Operación manual o automática
Volumen de carga 10 a 40 40 a 120 Entre 120 y 250
Diferencia de temperatura en la zona de temperatura constante ((°C) ± 3 años5 ± 5 ± 8
Ambiente de trabajo del horno Protección contra el vacío o el gas inerte (presión ligeramente positiva)
Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Ventaja uno:

Se puede utilizar para la purificación continua de grafitización a alta temperatura dePolvo de grafito, y el tratamiento de purificación combinando el método de alta temperatura con el tratamiento de alta temperatura.método químicopuede ser realizado.

Puede realizar los materiales continuoscarga y descargaproceso a alta temperatura que tienereducción del consumo de energíay acortó el tiempo de producción.
El sistema de calefacción por inducción permite alcanzar una temperatura igual o superior a 2850 °C.

Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Ventaja 2:

Al combinar el método de alta temperatura y el método químico, el equipo puede satisfacer el requisito detratamiento de alta pureza.

El sistema de filtración de alta eficiencia permite capturar eficazmente el polvo y el gas corrosivo producidos en el proceso de purificación.

Perfil de la empresa
Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Nuestra filosofía de la compañía:

No somos su proveedor, sino su socio y suministramos todas las soluciones de hornos de tratamiento térmico con un fuerte equipo de investigación y desarrollo, cadena de suministro estable con más de 14 años de experiencia bajo la estricta ISO9001:Sistema de gestión de la calidad 2015.

La Oficina Estatal de Propiedad Intelectual de la República Popular China (SIPO), de conformidad con la Ley de Patentes de la República Popular China, examinó y concedió nuestros derechos de patente:

Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente para horno de grafitización de alta temperatura:


Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente para horno de alta presión de vacío a alta temperatura:


Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente de un horno de grafitización de alta temperatura de fusión continua:


Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente para horno de sinterizado por carbonización:


Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente para horno de grafitización de descarga de fondo:


Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Patente para horno continuo de fibra de carbono


Proceso de producción
Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Fotos del cliente

Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales

Nuestro sistema logístico está en todo el mundo.

Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales
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Casos de cooperación con el cliente:
Fabricación de hornos de purificación personalizados para cristal de cerámica electrónica y componentes semiconductores nuevos materiales
Preguntas frecuentes

¿Es usted una fábrica o una empresa comercial?

- ¿ Qué?¿Es usted una fábrica o una empresa comercial?

A: ¿Qué quieres decir?Sí, somos el fabricante de hornos de vacío de alta temperatura líder en China 14+ años, otorgado con muchas certificaciones de patentes en el mercado doméstico.

¿Tiene un servicio de personalización o OEM?

- ¿ Qué?¿Tiene un servicio de personalización o OEM?

A: ¿Qué quieres decir?Sí, tenemos un poderoso equipo de I+D y equipos de alta tecnología. Así que no sólo podemos suministrar el modelo regular, sino también el horno personalizable como el repago de nuestros clientes.

¿Cuáles son tus ventajas?

- ¿ Qué?¿Cuáles son tus ventajas?

A: ¿Qué quieres decir?Respuesta rápida a su consulta

Control de calidad

Una cadena de suministro estable en el mercado nacional

Entrega oportuna

Excelente servicio post-venta, podemos enviar a nuestro ingeniero a la ciudad del cliente para la instalación y depuración.

Póngase en contacto conmigo de la siguiente manera:

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